中新网11月7日电据美国《纽约时报》报导，美国钻研生院理事会一年一度

的陈述显示，本年迈

入美国钻研生院的国际生源增

长了1%，此中中国粹生的“初度登科率”增加了3％。

陈述显示，虽然本年外国粹生的入学申请削减了5%，但入学人数增长了1%。这是美国钻研生届数年来的第一次增加。

理事会陈述显示，中国和印度前去美国攻读钻研生学位的人数至多。除此以外，韩国与中东国度的学生也较轻易得到前去美国攻读钻研生学位的签证。

别的，“初次登科率”增加最高的是来自中东国度的学生，增加比例是11%。中国与印度学生的“初次登科率”增加比例是3%。韩国则增加5%。

陈述指出，中国粹生登科率的增加值得存眷，由于客岁中国粹生登科与申请率在所有国度中跌幅最大。2004年，中国粹生申请美国攻读钻研生的比例降低45%。

陈述同时指出了国际学生在美国钻研生专业登科比例的变革。此中工程学，物理学与商学的登科人数增长，教诲学，人文社会科学与生物学的登科比例降低。